微米技术
微米技术用于界定物理特征尺寸接近1μm(10-6m)的体系 , 20世纪60年代后期,研究人员实现了机械装置的小型化和批量制作,这项技术给机械领域带来的进步,就像集成电路技术给电子领域带来的一样 , 微米技术也称为微机电系统( MEMS) 。
其始于1969年美国西屋公司设计的谐振栅—场效应晶体管 。接下来的十年中 , 一些制造厂商开始使用体硅蚀刻技术生产压力传感器 。技术上的突破一直持续到20世纪80年代初,使用新型多晶硅表面微加工技术来制造用于磁盘驱动磁头的驱动器 。
1um=40u
1、um是电镀单位 。
2、电镀 :电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用 。不少硬币的外层亦为电镀 。
3、1μ=1uinch(微英寸)=00254μm(微米)=254mm(毫米)1μm(微米)=0001mm(毫米)1mm(毫米)=1000μm(微米)
扩展资料:
工作原理
电镀需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴极)和阳极构成的电解装置 。其中电镀液成分视镀层不同而不同,但均含有提供金属离子的主盐 , 能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂 , 用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂,阳极活化剂和特殊添加物(如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等) 。
电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电极反应还原成金属原子,并在阴极上进行金属沉积的过程 。因此 , 这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程 。
在盛有电镀液的镀槽中 , 经过清理和特殊预处理的待镀件作为阴极,用镀覆金属制成阳极,两极分别与直流电源的正极和负极联接 。电镀液由含有镀覆金属的化合物、导电的盐类、缓冲剂、pH调节剂和添加剂等的水溶液组成 。
通电后,电镀液中的金属离子 , 在电位差的作用下移动到阴极上形成镀层 。阳极的金属形成金属离子进入电镀液 , 以保持被镀覆的金属离子的浓度 。在有些情况下,如镀铬 , 是采用铅、铅锑合金制成的不溶性阳极,它只起传递电子、导通电流的作用 。电解液中的铬离子浓度 , 需依靠定期地向镀液中加入铬化合物来维持 。电镀时,阳极材料的质量、电镀液的成分、温度、电流密度、通电时间、搅拌强度、析出的杂质、电源波形等都会影响镀层的质量 , 需要适时进行控制 。
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